按时间归档：2026年8月27日

半导体、面板、PCB、电子元器件等工厂，正在面对一个越来越现实的问题： 生产线越来越精密，厂务能源系统也越来越复杂。 电力、天然气、冷冻水、热水/蒸汽、压缩空气、氧气/氮气、CDA…

在先进晶圆制造体系中，厂务真空与工艺真空系统（HV/PV）是贯穿薄膜沉积、刻蚀、离子注入、扩散、检测及关键设备排气的“厂务负压动脉”，其真空度、抽速、泄漏率、洁净度、排气稳定性及联…

在先进晶圆制造体系中，洁净室是承载光刻、薄膜、刻蚀、清洗、检测等核心工序的“制造底盘”，其洁净等级、气流组织、温湿度稳定性、压差控制与微污染防控能力，直接影响晶圆良率、设备稼动率与…

在先进晶圆制造体系中，超纯水系统（UPW）是贯穿清洗、湿法刻蚀、CMP、光刻配套、化学品稀释及关键设备用水的“厂务生命水”，其电阻率、TOC、微颗粒、金属离子、溶解氧、硅硼杂质及微…

随着中国半导体产业持续发展与产业链加速升级，先进制造对高性能材料及核心部件的需求不断增长，材料的品质、稳定性与现地化供应能力也日益成为产业发展的重要支撑。与此同时，半导体产业链现地…